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微纳测试加工(XF-WSBX-2100539)延期公告

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信息时间:
2021-10-21
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微纳测试加工(XF-WSBX-******)延期公告

发布时间:2021-10-21 11:11:27

延期信息

延期理由:由于该项目报价情况不满足要求,本项目延期至2021-10-24 13:00

项目信息

项目名称:微纳测试加工

项目编号:XF-WSBX-******

公告开始日期:******28000

公告截止日期:******00000

******大学

付款方式:货到付款(人民币报价的,甲方在完成验收并获取乙方支付凭证后30日内向乙方一次性支付本项目的总款项。 需由甲方办理进口减免税业务的,只接受外币报价,汇率风险如无约定由甲方承担,境内产生的其他所有费用由乙方承担(包括可能加增的关税)。在甲方完成到货验收后30日内由甲方指定的外贸代理公司向乙方指定的外方公司一次性支付外币报价的全部款项。也可采用乙方交5%履约保证金后外贸公司见发货单支付外方公司100%款项)。

联系人:中标后在我参与的项目中查看

联系电话:中标后在我参与的项目中查看

签约时间要求:成交后7天

到货时间要求:

预算:¥300000.00

收货地址:

供应商资质要求:符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

公告说明:由于该项目报价情况不满足要求,本项目延期至2021-10-24 13:00

采购清单

采购商品:微纳测试加工

采购数量:1

计量单位:项

所属分类:其他服务行业

预算:¥300000.00

技术参数及配置要求:1、MA6 制作光刻胶掩膜 30小时
2、NIKON-I12步进光刻机\t制作高精度光刻胶掩膜 30小时
3、电子束光刻机\t高精度精细结构制作 40小时
4、冷场发射扫描电镜\t观察器件精细形貌 30小时
5、等离子去胶机\t芯片表面清洁 28小时
6、PECVD\t薄膜生长 20小时
7、NLD 570\t刻蚀特定材料 20小时
8、金属干法\t金属刻蚀 20小时
9、磁控溅射\t金属薄膜生长 20小时
10、电子束蒸发(Cr、Al、Ni等)\t生长部分金属 20小时
11、电子束蒸发(Au及合金)\t生长金及其合金 10小时
12、划片机\t得到特定尺寸芯片 10小时
13、超净间使用费\t小设备、超净间使用费 220小时

售后服务:无;

查看项目详细信息

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